復雜光滑表面形變的高精度瞬態測量技術

其它領域

　　擬針對復雜光滑表面加工原位測量、半導體材料生長監控、MEMS膜層材料特性等研究領域應用中，動態檢測所帶來的基準面形變化大、形變動態范圍大、檢測速度要求高等難題，提供一種光滑表面形變高精度瞬態測量技術。最大可測形變量可達150微米，精度優于1微米，測量速度優于10幀每秒。 　　本項目研究團隊長期從事精密光電測試及成像理論和技術科研工作。在國家自然科學基金等支持下，深入研究了基于部分補償法和數字莫爾移相干涉的光學面形測試理論和方法，形成了光學面形高精度測量的系統理論，并研發了光學面形高精度測量原理樣機，在中國空間技術研究院、中國計量研究院、清華大學深圳研究生院等重要科研單位得到應用，解決相關的技術難題。先后申請國家發明專利18項，已獲授權13項，發表學術論文30余篇。