一種改進的基于支持向量機的納米結構特征尺寸提取方法

其它領域

本發明公開了一種改進的基于支持向量機的半導體納米結構特征尺寸提取方法，步驟為：確定每一個待提取參數的取值范圍，生成子光譜數據庫；利用訓練光譜和支持向量機訓練網絡進行支持向量機訓練；對每一個待提取參數利用訓練光譜重復訓練多個支持向量機，每一個支持向量機的訓練終止條件均不相同；利用多個支持向量機，對測量光譜進行映射；找出所有支持向量機映射結果中出現次數最高的一個，視為最有可能出現的取值區間；建立子光譜數據庫，找出其中與測量光譜最為相似的仿真光譜，即認為是待測結構的參數值。本發明可以實現特征線寬、高度、側

試用