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14?納米CMOS?量產工藝中光源掩模協同優化技術
2021-01-12 00:00:00
云上高博會
http://www.furenw.xyz
關鍵詞：
CMOS
所屬領域:
項目成果/簡介:
已有樣品/n微電子所先導中心韋亞一研究員團隊與中芯國際研究團隊圍繞14 納米CMOS 量
產工藝中光源掩模協同優化技術開展聯合攻關并取得顯著進展，完成了后段制程中
多層關鍵層的光源優化工作，包括Metal 1X、Metal 1.25X、Via 1X 等。優化后光
源通過晶圓數據驗證評估，較原有光源在各項關鍵指標上有顯著提升，保證了先進
節點中光刻工藝的穩定性。
項目階段:
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